ASML atinge marco da 'primeira luz' em ferramenta EUV High-NA

AMSTERDÃ (Reuters) - A ASML atingiu a 'primeira luz' em seu novo e enorme sistema de litografia EUV High-NA, confirmou o fabricante holandês de equipamentos para semicondutores nesta quarta-feira, um marco que significa que a ferramenta está funcionando, embora não esteja com desempenho total.

A chefe de desenvolvimento de tecnologia da Intel, Ann Kelleher, mencionou pela primeira vez o progresso durante uma palestra na conferência de litografia SPIE na terça-feira em San Jose.

A ASML confirmou que as observações de Kelleher eram precisas.

Os sistemas de litografia utilizam feixes de luz focalizados para ajudar a criar os minúsculos circuitos dos chips de computador. Espera-se que as ferramentas EUV High-NA da ASML, que têm o tamanho de um ônibus de dois andares e custam mais de 350 milhões de dólares cada, ajudem a viabilizar novas gerações de chips menores e mais rápidos.

A primeira ferramenta High-NA existente está no laboratório da ASML em Veldhoven, Holanda, e a segunda está sendo montada em uma fábrica da Intel perto de Hillsboro, Oregon.

Espera-se que os fabricantes de chips avançados, incluindo a TSMC e a Samsung, adotem a ferramenta nos próximos cinco anos, com a Intel dizendo em um evento na semana passada que pretende usar a ferramenta na produção de sua geração de chips 14A.

Na palestra de Kelleher, ela disse que a máquina de Veldhoven viu a 'primeira luz sobre o wafer em resistência', o que significa que a máquina foi usada em um teste em um wafer de silício que foi tratado com produtos químicos sensíveis à luz para que estivesse pronto para receber um padrão de circuito.

Um porta-voz da ASML disse que o marco da primeira luz foi alcançado 'muito recentemente'.

(Reportagem de Toby Sterling)